库表征

使用纳米工艺技术进行设计——尤其是在高级节点（28 纳米及以下）——需要许多额外的库视图，以实现高质量的硅片并避免由于签核分析不准确而导致的硅片重新旋转。为了对特定于实例的电压变化或温度梯度进行精确建模，在多个电压和多个温度下表征每个库至关重要，从而增加库角的总数。对于最先进的工艺，提供替代单元库以牺牲面积和性能为代价来提高产量正变得越来越普遍。因此，创建和维护所有这些库视图正成为设计流程中的主要瓶颈。

Cadence 提供了一个以 Cadence ^®表征产品组合为中心的库表征流程。该套件被全球主要客户采用，包括 Liberate ^™ Trio Characterization Suite、Liberate MX Memory Characterization 和 Liberate AMS Mixed-Signal Characterization 以及 Liberate LV Library Validation Solution、Liberate Variety ^™的独立选项统计表征和解放表征。该产品组合为基础 IP 的表征、变化建模和验证提供了业界最完整、最强大的解决方案，从标准单元、I/O 和复杂的多位单元到存储器和混合信号块。Cadence 获得专利的 InsideView 技术通过提高库吞吐量并确保 IP 的时序、功率、噪声和统计覆盖范围，提供更好的硅相关性。表征产品组合还与行业标准 SPICE 模拟器Cadence Spectre ^®电路模拟器集成，以高级节点库所需的精度提供更高的吞吐量。